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| 当研究室では、この透明電熱炉をを用いることで、大気下、なんと1000℃という高温で24時間加熱することができることから、シリコン基板を熱酸化することによって、シリコン酸化膜の形成させ、絶縁層として利用するために使用しています。ところが、この方法で作成した酸化膜は非常に欠陥の多い酸化膜となってしまい、絶縁層としは相応しくありませんでした。よって、次の使命を待っているさびしい実験器具です・・・。他の利用方法としては単結晶の作製などがあります。冬の寒い時期では、この透明電熱炉はストーブの代わりにもなる優れものです。 |
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